作為制造光伏電池和集成電路的基礎，硅片的清洗非常重要。清洗效果直接影響到光伏電池和集成電路的最終性能、效率和穩定性。
清洗硅片不僅要去除硅片表面的雜質，還要對硅片表面進行鈍化處理，降低硅片表面的吸附能力。理論上，高質量硅片表面不存在顆粒、金屬離子、有機附著、水蒸氣和氧化層。此外，要求硅片表面具有原子級平整度，硅片邊緣的掛鍵通過氫鍵終止。目前，由于硅片清洗技術的缺陷，大規模集成電路（LSI）在許多領域得到了廣泛的應用
ICS干冰清洗機|高效 環保 應用廣泛
由于硅材料的清潔度不夠，出現問題甚至失效的比例達到50%，因此有必要對硅片的清洗工藝進行優化。
硅片可以用干冰清洗機嗎？
當溫度超過31.1℃，壓力達到7.38mpa時，CO2處于超臨界狀態，可以實現氣固轉換。二氧化碳通過噴嘴突然從氣缸中噴出，壓力下降，體積迅速膨脹，二氧化碳的恒定焓發生變化。二氧化碳的氣液混合物產生固體干冰顆粒，從而實現硅片的清洗。干冰顆粒去除顆粒物和有機物雜質的機理不同。
采用干冰微粒清洗技術對硅片進行清洗效果十分理想，而且對硅片表面無損害，不會污染環境，是一種理想的清洗技術。
